先進封裝 CoWoS / HBM / TSV 製程解決方案

Advanced Packaging Bonding & Debonding Solution for CoWoS / HBM / TSV

AI、HPC 與高頻寬記憶體應用推動先進封裝製程快速發展。CoWoS、HBM 與 TSV 相關製程通常需要穩定的晶圓支撐、薄化後搬運、雷射解鍵合、清洗與高密度互連製程能力。

先進封裝製程的核心挑戰

  • Thin Wafer Support:晶圓薄化與背面製程需要穩定的臨時支撐。
  • TTV / Warpage Control:長流程製程中需要控制 TTV、翹曲與尺寸穩定性。
  • Laser Debonding:雷射解鍵合需兼顧分離效率、低損傷與後段清洗品質。
  • High-Density Integration:HBM、TSV、3D IC 與 SoIC 等應用對鍵合精度與表面狀態要求更高。

時轉科技的先進封裝解決方案

時轉科技提供從 12 吋熱固化臨時鍵合、雷射解鍵合、永久鍵合到混合鍵合的設備平台,協助客戶建立先進封裝製程所需的晶圓支撐、分離、清洗與高密度整合能力。

對應設備

WT-WIBT-12  12 吋全自動晶圓熱固化臨時鍵合機

WT-WIBT-12 適用於 CoWoS、TSV、HBM 與先進封裝背面製程支撐,提供熱固化鍵合、烘烤、鍵合與 TTV 量測整合流程。

  • 應用:CoWoS / HBM / TSV / Advanced Packaging
  • 功能:Coating / Baking / Bonding / TTV Measurement
  • 重點:高穩定支撐、TTV 控制與薄晶圓搬運可靠性

查看 WT-WIBT-12 熱固化臨時鍵合機詳細規格 →

WT-WIDL-12  12 吋雷射解鍵合設備

WT-WIDL-12 對應先進封裝臨時鍵合後的雷射解鍵合、Carrier Lift-Off、電漿處理與濕式清洗需求。

  • 應用:CoWoS / HBM / TSV / Advanced Packaging
  • 功能:Laser Debonding / Carrier Lift-Off / Plasma / Wet Cleaning
  • 重點:低損傷分離、殘留清洗與薄晶圓搬運整合

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WT-WIBP-12 / WT-WIBH-12 永久與混合鍵合設備

針對 3D IC、HBM、SoIC 與高密度互連製程,時轉科技提供永久鍵合與混合鍵合平台,支援多層堆疊與高密度整合需求。

  • WT-WIBP-12:永久鍵合平台
  • WT-WIBH-12:混合鍵合平台
  • 應用:3D IC / SiP / HBM / SoIC / Hybrid Bonding

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典型製程流程

Temporary Bonding → Wafer Thinning / TSV / Backside Process → Laser Debonding → Plasma / Wet Cleaning → Permanent / Hybrid Bonding

與我們討論您的先進封裝製程需求

如果您正在評估 CoWoS、HBM、TSV、3D IC 或 SoIC 相關鍵合 / 解鍵合設備,歡迎與時轉科技聯繫。我們可以依據晶圓尺寸、材料系統、後續製程負載與清洗需求,協助評估合適的設備配置。